温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明属于超精密抛光以及复杂曲面光学元件加工技术领域，特别是涉及一种基于磁场发生装置公自转的集群磁流变抛光装置，通过在抛光盘的下方加入行星齿轮组的方式，使磁场发生装置可以围绕主轴做公自转运动。磁场发生装置在做公自转运动的同时，会影响上方磁流...
该专利属于刘宇阳所有，仅供学习研究参考，未经过刘宇阳授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。