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本发明属于微柱制备技术领域，具体涉及一种大高宽比微柱制备方法、微柱阵列制备方法、3D打印设备。微柱制备方法包括步骤：S1、打印喷头在基板表面相应位置处开始出墨，并在该位置处作第一预设时长的停留，以在该位置处堆积形成打印基底；S2、打印喷头在...
该专利属于芯体素（杭州）科技发展有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过芯体素（杭州）科技发展有限公司授权不得商用。

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