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一种基于纳米粒子阵列的光刻掩膜的制造方法，利用喷墨打印可控的水滴阵列，在水滴阵列表面分别对准喷打所需不同直径纳米粒子阵列，纳米粒子分散液与水滴不互溶，在水滴表面上形成纳米粒子单层膜，加热干燥后形成纳米粒子单层阵列，然后将纳米粒子单层阵列转移...
该专利属于西安电子科技大学所有，仅供学习研究参考，未经过西安电子科技大学授权不得商用。

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