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本发明公开一种CrN/Cr2O3涂层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、溅射CrN过渡层：将离子清洗后的基体停留在Cr靶之前，通过功率15kW的脉冲反应溅射获得CrN过渡层，得到溅射CrN过渡层的基体；S2、制备CrN/Cr2O3结...
该专利属于上海新弧源涂层技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海新弧源涂层技术有限公司授权不得商用。

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