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本实用新型提供一种用于光栅扫描电子束曝光机的曝光校正图形结构，曝光校正图形结构包括至少一根沿第一方向延伸的第一条状图形以及至少一根沿第二方向延伸的第二条状图形，第一条状图形和第二条状图形交叉排布，第一条状图形的长度为光栅扫描电子束曝光带的带...
该专利属于上海凸版光掩模有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海凸版光掩模有限公司授权不得商用。

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