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本发明公开了一种基于纳米压印的线栅圆偏振片，涉及纳米压印、线栅偏振片技术领域，包括衬底和位于衬底上下两侧的反射层和旋光层，所述反射层和旋光层均为纳米线栅，且均由多组相互平行的线栅组成；所述反射层的纳米线栅的光栅周期∧1远小于该纳米线栅的工作...
该专利属于中国科学技术大学所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学技术大学授权不得商用。

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