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原料供给系统、基板处理装置以及半导体器件的制造方法制造方法及图纸
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文档序号:38748628
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本发明提供能够利用一个原料供给系统实现多个原料的供给的技术。提供能够将多个原料供给至处理室的构成,该构成具备:第1气体供给管线,其构成为能够利用流量控制器对利用第1原料生成的第1前驱体气体进行流量控制,并供给至所述处理室;以及第2气体供给管...
该专利属于株式会社国际电气所有,仅供学习研究参考,未经过株式会社国际电气授权不得商用。
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