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利用文丘里效应产生真空的装置具有壳体,所述壳体限定抽吸腔室、朝向所述抽吸腔室会聚的推进通道、远离所述抽吸腔室发散的排放通道、以及具有与所述抽吸腔室流体连通的第一端口的抽吸通道。在所述抽吸腔室内,所述推进通道的推进出口与所述排放通道的排放入口...该专利属于戴科知识产权控股有限责任公司所有,仅供学习研究参考,未经过戴科知识产权控股有限责任公司授权不得商用。
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利用文丘里效应产生真空的装置具有壳体,所述壳体限定抽吸腔室、朝向所述抽吸腔室会聚的推进通道、远离所述抽吸腔室发散的排放通道、以及具有与所述抽吸腔室流体连通的第一端口的抽吸通道。在所述抽吸腔室内,所述推进通道的推进出口与所述排放通道的排放入口...