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本发明公开基板热处理装置，其包括：包括：工艺腔室，在内部放置待热处理的平板基板，包括位于平板基板的下部的光束透射板和位于平板基板的上部的红外线透射板；光束照射模块，通过光束透射板向平板基板的下部面照射单一波长的垂直腔面发射激光器(VCSEL...
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