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本发明涉及清洗工艺技术领域，具体涉及一种刻蚀残留物清洗剂。本发明所述清洗剂包括：羟胺，水，有机溶剂和螯合剂，以所述清洗剂的总质量为100％计，所述羟胺的含量为10
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该专利属于深圳新宙邦科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳新宙邦科技股份有限公司授权不得商用。

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