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本申请提供一种硅片的制备方法，所述制备方法包括以下步骤：在硅片的一个或两个表面制备正金字塔绒面，在具有正金字塔绒面的硅片上制备掩膜，采用化学机械抛光工艺去除正金字塔塔顶处的掩膜，对去除了正金字塔塔顶处掩膜后的硅片进行刻蚀，以制备倒金字塔绒面...
该专利属于隆基绿能科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过隆基绿能科技股份有限公司授权不得商用。

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