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一种处理均匀的电解抛光装置，包括抛光池和可旋转抛光装置，所述抛光池上端外壁且靠近前后两侧之间设置有可旋转抛光装置，所述可旋转抛光装置包括转轴、固定头、支撑杆和转台，所述抛光池上端外壁后侧边缘出设置有固定头，所述固定头前端设置有支撑杆，所述支...
该专利属于丸井科技(常州)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过丸井科技(常州)有限公司授权不得商用。

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