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本发明涉及高聚物电容膜领域，公开了一种聚醚砜材料、低缺陷敏感性的聚醚砜电容膜及制备方法。本发明的聚醚砜材料包括以下质量百分比的各组份：聚醚砜65%～95%、聚碳酸酯
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该专利属于乌镇实验室所有，仅供学习研究参考，未经过乌镇实验室授权不得商用。

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