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本发明揭示了一种基于喷墨印刷的光电器件功能层制备方法,所述方法包括以下步骤:S1、通过疏水材料对光电器件的第一功能层表面进行疏水处理;S2、采用等离子工艺对疏水处理后的第一功能层进行处理,调控第一功能层的表面能;S3、在经过等离子工艺处理后...该专利属于中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所授权不得商用。
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本发明揭示了一种基于喷墨印刷的光电器件功能层制备方法,所述方法包括以下步骤:S1、通过疏水材料对光电器件的第一功能层表面进行疏水处理;S2、采用等离子工艺对疏水处理后的第一功能层进行处理,调控第一功能层的表面能;S3、在经过等离子工艺处理后...