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本发明涉及一种半色调掩模版及其制造方法。半色调掩模版包括基板，所述基板包括有效区域和无效区域，所述有效区域包括半色调区域、不透光区域和完全透光区域，所述有效区域以外的区域为所述无效区域，所述半色调区域形成有用于进行透光率调节的半色调区域层。...
该专利属于北京京东方光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京京东方光电科技有限公司授权不得商用。

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