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本实用新型涉及陶瓷加工设备技术领域，且公开了一种陶瓷加工用上釉装置，包括底座，所述底座的前端设置有注入口，所述底座的右端设置有升降机构，所述底座的上端设置有拿取机构，所述底座的内部设置有加热板，所述底座内侧的左右两端均开设有滑槽，所述滑槽开...
该专利属于曾光波所有，仅供学习研究参考，未经过曾光波授权不得商用。

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