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多片碳化硅籽晶涂层同时处理的装置和方法制造方法及图纸
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文档序号:38362345
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本发明涉及半导体技术领域,具体而言,涉及一种多片碳化硅籽晶涂层同时处理的装置和方法,该装置包括加热机构和籽晶放置机构,加热机构设置有容纳腔;籽晶放置机构可拆卸地放置于容纳腔内;其中,籽晶放置机构包括多个籽晶盒,多个籽晶盒可拆卸地依次重叠放置...
该专利属于苏州优晶光电科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过苏州优晶光电科技有限公司授权不得商用。
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