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本发明提供了一种用于阻挡层平坦化的化学机械抛光液及其使用方法。该化学机械抛光液包括研磨颗粒、唑类化合物、络合剂、氧化剂,水溶性纤维素、非离子表面活性剂和水。本发明中的化学机械抛光液可以满足阻挡层抛光过程中对各种材料的抛光速率和选择比的要求,...该专利属于安集微电子科技(上海)股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过安集微电子科技(上海)股份有限公司授权不得商用。
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