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本发明实施例公开了一种静压垫、研磨设备及硅片，静压垫用于在硅片双面研磨设备中成对地夹持硅片的两侧，静压垫包括基板、调节板和驱动模块，基板具有朝向硅片的固定平面；调节板通过驱动模块安装在固定平面上，调节板具有朝向硅片的第一平面，第一平面用于通...
该专利属于西安奕斯伟材料科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过西安奕斯伟材料科技股份有限公司授权不得商用。

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