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本发明属于半导体和电子器件的微纳加工的技术领域，具体涉及一种针对气相金属辅助化学刻蚀的微波辅助装置。包括微波发生装置和立方体形的刻蚀腔室，微波发生装置的下端通过波导和刻蚀腔室的上端连通；刻蚀腔室内设有方形的晶圆托盘和用于水平支撑晶圆托盘的支...
该专利属于合肥工业大学所有，仅供学习研究参考，未经过合肥工业大学授权不得商用。

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