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本发明公开了一种化学机械抛光液，其特征在于：其含有二氧化硅、烷基取代的硅氧烷封端的聚烷氧基和水。本发明的抛光液克服了现有的用于抛光氧化物介电质的化学机械抛光液中采用聚醚来抑制多晶硅的抛光速率，在抛光过程中产生大量泡沫，影响抛光速率并对环境产...
该专利属于安集微电子（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安集微电子（上海）有限公司授权不得商用。

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