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本发明公开了一种电磁屏蔽复合结构及其制作方法，电磁屏蔽复合结构包括电磁屏蔽层组以及导电引线层；所述电磁屏蔽层组包括堆叠设置的第一电磁屏蔽层和第二电磁屏蔽层，所述第二电磁屏蔽层的边缘暴露出所述第一电磁屏蔽层的表面；所述导电引线层自所述第二电磁...
该专利属于中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所授权不得商用。

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