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本发明公开了一种基于去除函数预测模型的计算机控制抛光方法，其步骤为：（１）通过已知材料Ｂ对未知材料Ａ进行首次计算机控制抛光加工；（２）理论预测材料Ａ的去除函数模型；（３）基于步骤（２）中的预测去除函数模型，在接下来的计算机控制抛光加工过程中...
该专利属于中国人民解放军国防科学技术大学所有，仅供学习研究参考，未经过中国人民解放军国防科学技术大学授权不得商用。

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