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本公开提供一种蒸发装置、真空蒸镀设备以及真空蒸镀方法，所述蒸发装置用于真空蒸镀金属，所述蒸发装置包括：电阻蒸发源，具有容置凹槽，所述电阻蒸发源配置为加电后产生热量；以及导热蒸发坩埚，可拆卸地容置在所述容置凹槽中，所述导热蒸发坩埚配置为容置待...
该专利属于安迈特科技（北京）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安迈特科技（北京）有限公司授权不得商用。

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