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本发明公开了一种浅注入成膜设备，包括真空腔室底柜，真空腔室底柜上面连接设有真空腔室，真空腔室上面通过活套法兰一连接设有分子泵，真空腔室两侧均通过活套法兰二连接设有磁过滤器，磁过滤器上面连接设有阳极筒，真空腔室底部通过工作台转轴系统和齿轮连接...
该专利属于北京师范大学所有，仅供学习研究参考，未经过北京师范大学授权不得商用。

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