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本发明公开了一种巴布剂基质及其制备方法，基质成份包括了：部分中和的聚丙烯酸钠，甘羟铝，甘油，乙二胺四乙酸二钠盐，聚乙烯吡咯烷酮，交联聚乙烯吡咯烷酮，酒石酸，嘉兰丹，聚山梨醇酯８０，纯化水，制备方法包括了油相制备、水相制备以及油相水相混合三步...
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