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GaNHEMT器件、半导体器件、电子设备以及制备方法技术
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文档序号:37963755
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本发明提供了一种GaNHEMT器件,包括:GaNHEMT结构;其中,所述GaNHEMT结构的表层包括:第一区域、第二区域以及第三区域;所述第一区域、所述第二区域以及所述第三区域沿水平方向依次排列;p
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该专利属于复旦大学所有,仅供学习研究参考,未经过复旦大学授权不得商用。
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