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混维范德瓦尔斯异质结光电探测器及其制备方法技术
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文档序号:37962816
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本申请公开了混维范德瓦尔斯异质结光电探测器及其制备方法,其中,混维范德瓦尔斯异质结光电探测器包括:氧化硅片,具有衬底电极层以及衬底介电层;Bi2O2Se纳米线,位于衬底介电层的上方;二维过渡金属硫属化物层,位于Bi2O2Se纳米线的上方;漏...
该专利属于浙江芯科半导体有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过浙江芯科半导体有限公司授权不得商用。
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