温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明涉及一种Si3N4膜形成用气氛稀有气体Xe回收装置及其使用方法，所述装置由Si3N4膜形成装置、原料气前处理系统、Xe回收系统、浓缩Xe系统三部分组成，其特征在于：所述Si3N4膜形成装置排放废气出口连接缓冲罐进口，该缓冲罐的出口设置...
该专利属于杭氧集团股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过杭氧集团股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。