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一种具有阳极辅栅的超结IGBT器件制造技术
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文档序号:37853693
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本发明涉及功率半导体技术,具体涉及一种具有阳极辅栅的超结IGBT器件,包括:金属集电极;阳极辅助平面栅,由第二导电类型半导体多晶区、第一绝缘介质层、第一导电类型半导体集电区、第二导电类型源区、第二导电类型杂质缓冲层组成;超结柱区,由一导电类...
该专利属于电子科技大学所有,仅供学习研究参考,未经过电子科技大学授权不得商用。
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