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本公开涉及一种提高等离子体制粉系统控制精度的方法、装置及设备,包括:获取等离子体制粉系统中控制变量当前的输入参数;将输入参数输入到与制粉原料对应的预先建立的预测控制模型中,得到与被控变量对应的目标输出参数,预测控制模型根据控制变量的历史输入...该专利属于苏州汉霄等离子体科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过苏州汉霄等离子体科技有限公司授权不得商用。
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本公开涉及一种提高等离子体制粉系统控制精度的方法、装置及设备,包括:获取等离子体制粉系统中控制变量当前的输入参数;将输入参数输入到与制粉原料对应的预先建立的预测控制模型中,得到与被控变量对应的目标输出参数,预测控制模型根据控制变量的历史输入...