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动态存储装置及其制备方法制造方法及图纸
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文档序号:37789246
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本申请实施例提供了一种动态存储装置及其制备方法。动态存储装置的制备方法包括:提供硅衬底,在所述硅衬底上制备硅基半导体层;在所述硅基半导体层的一侧依次制备第一绝缘层、第一金属层和第二金属层,形成读取场效应管;在所述第二金属层的一侧制备连接层;...
该专利属于北京超弦存储器研究院所有,仅供学习研究参考,未经过北京超弦存储器研究院授权不得商用。
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