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根据本发明的气体处理装置及方法,气体处理装置包括气体入口和至少两个交替对所述气体中的目标气体进行吸附处理、脱附处理的腔室,所述腔室内设有吸附目标气体的吸附材料,其中,至少两个所述腔室可移动地设于气体处理装置内以保证至少一个所述腔室与所述气体...该专利属于上海必修福企业管理有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海必修福企业管理有限公司授权不得商用。
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根据本发明的气体处理装置及方法,气体处理装置包括气体入口和至少两个交替对所述气体中的目标气体进行吸附处理、脱附处理的腔室,所述腔室内设有吸附目标气体的吸附材料,其中,至少两个所述腔室可移动地设于气体处理装置内以保证至少一个所述腔室与所述气体...