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本实用新型涉及提高大面积硅材料上金刚石形核均匀性的预处理装置，基台通过升降支架固定在容器内，并浸没在保护液内；喷枪布置在容器上方，喷枪的喷嘴朝向基台。本实用新型的有益效果为：通过喷枪喷射高压的金刚石粉悬浊液对单晶硅片表面进行冲击，在单晶硅片...
该专利属于武汉莱格晶钻科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过武汉莱格晶钻科技有限公司授权不得商用。

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