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本发明提供了一种用于缺陷检测的调焦方法，包括：将待测基底置于工件台上并使所述待测基底的中心点处于检测物镜的最佳焦面；垂向测量传感器获取多个采样点的垂向高度；对所述待测基底的所有采样点进行多项式拟合，输出用于拟合基底面型的测量的所有采样点数据...
该专利属于上海微电子装备（集团）股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海微电子装备（集团）股份有限公司授权不得商用。

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