下载一种工艺腔室具有自动排气功能的半导体工艺设备的技术资料

文档序号:37708292

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本发明涉及半导体加工技术领域,具体地说,涉及一种工艺腔室具有自动排气功能的半导体工艺设备。其包括加工外壳以及送气管道,加工外壳内设有承载装置。本发明中通过设有抽风结构,在蚀刻阶段时由于活动体只转动不升降,此时传动杆顶部位于所述插槽内,卡条不...
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