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本发明属于复合涂层制备技术领域，具体涉及一种用于涂层石墨坩埚复用的涂层修复方法。本发明将等离子体喷涂后的片层结构进行激光重熔，降低涂层表面的孔隙率，激光熔覆后的涂层面再经过真空热压，热压后的涂层内部的孔隙大大减少，同时涂层与基体、涂层与涂层...
该专利属于中核四0四有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中核四0四有限公司授权不得商用。

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