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本发明公开了一种光刻机工件台运动控制方法，属于涉及精密运动控制领域。包括：将光刻机工件台的运动伺服系统的电流环和速度环设置作为广义被控对象；将位置环设置为非线性自抗扰控制对广义被控对象的位置进行反馈控制；在反馈控制中引入基于无模型自适应迭代...
该专利属于电子科技大学所有，仅供学习研究参考，未经过电子科技大学授权不得商用。

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