温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

光掩模缺陷修正方法、光掩模制造方法、相移掩模制造方法、光掩模、相移掩模、光掩模组以及图案转印方法。在第１光掩模（１）所形成的第１转印图案中产生的图案缺陷（４、５）中，仅对如下区域中的缺陷（４）进行修正，即进行使用第１光掩模（１）对被转印体进...
该专利属于HOYA株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过HOYA株式会社授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。