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本发明公开了一种掩模板和曝光装置，掩模板包括：基板，所述基板包括邻近分布的第一透光区与第二透光区，所述基板的一侧设有反射结构，所述反射结构设置于所述第二透光区的外周，所述反射结构用于反射从所述基板的一侧投射至所述反射结构的光，所述反射结构反...
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