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本发明涉及光学设施及其加工方法技术领域，且公开了一种无毛刺遮光圈生产装置及生产方法，解决了遮光圈直接放置于烘干设备中进行烘干，由于遮光圈堆放在一起，进而导致遮光圈烘干不均匀，从而导致烘干时间较长，降低了工作效率，烘干效果不佳的问题，其包括烘...
该专利属于漳州晶悦电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过漳州晶悦电子有限公司授权不得商用。

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