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本发明公开了一种化学机械抛光装置和抛光方法，所述化学机械抛光装置包括：抛光盘，其顶面设置有可拆卸的填充环；承载头，用以接收并加载晶圆于抛光盘上部的抛光垫；所述填充环拆卸后，抛光盘顶面形成有环状凹槽；使得承载头可以旋转并沿抛光垫的径向移动，以...
该专利属于华海清科股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过华海清科股份有限公司授权不得商用。

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