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PVD方法及设备技术
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文档序号:37490601
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本申请案的实施例涉及一种PVD方法及设备。根据本发明,提供一种通过物理气相沉积PVD将沉积材料沉积到形成在衬底中的多个凹槽中的方法,所述方法包括以下步骤:将所述衬底定位在衬底支撑件的衬底支撑上表面上,其中永磁体布置定位于所述衬底支撑上表面下...
该专利属于SPTS科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过SPTS科技有限公司授权不得商用。
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