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本发明涉及抛光技术领域，具体涉及一种采用原位进料的抛光方法及用途。抛光方法包括：1)将磨粒、氧化剂、分散剂、pH调节剂、螯合剂、水混合，以提供溶液A；其中，氧化剂包括第一氧化剂和第二氧化剂；2)将还原剂溶于水中，以提供溶液B；3)将步骤1)...
该专利属于上海映智研磨材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海映智研磨材料有限公司授权不得商用。

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