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提供了一种能够稳定地控制弯液面位置的基板处理装置。该基板处理装置包括：头单元，用于排放液态化学品；贮存器，用于贮存液态化学品，并向头单元供应液态化学品；压力调节单元，用于调节贮存器内部的压力；以及捕集单元，布置在贮存器和压力调节单元之间，并...
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