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本发明属于光学元件抛光领域，具体涉及一种基于金属气化反作用力的熔石英抛光方法。包括如下步骤：步骤(1)：在熔石英试样表面镀一层厚度为100～300μm金属镍膜；步骤(2)：采用高能量密度激光辐照金属镍膜，调整激光参数使金属镍烧蚀蒸发，通过金...
该专利属于南京理工大学所有，仅供学习研究参考，未经过南京理工大学授权不得商用。

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