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本申请提供一种外延设备及半导体器件，该外延设备包括：外延工艺反应腔和第一激光控制系统。外延工艺反应腔内设有用于承载衬底的托盘，外延工艺反应腔包括第一激光可视窗口。第一激光控制系统用于出射第一激光，并使第一激光穿过第一激光可视窗口后，射向托盘...
该专利属于华为数字能源技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过华为数字能源技术有限公司授权不得商用。

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