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基于超高真空表面活化的氧化镓与金刚石键合方法及晶片技术
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下载基于超高真空表面活化的氧化镓与金刚石键合方法及晶片的技术资料
文档序号:37382002
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本发明属于半导体材料制备工艺领域,具体涉及一种基于超高真空表面活化的氧化镓与金刚石键合方法及晶片,该方法制备的金刚石基氧化镓晶片具有氧化镓层/非晶氧化镓层/纳米粘接层/非晶碳层/金刚石衬底和氧化镓层/非晶氧化镓层/非晶碳层/金刚石衬底两种结...
该专利属于咸阳职业技术学院所有,仅供学习研究参考,未经过咸阳职业技术学院授权不得商用。
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