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本发明涉及集成电路设计领域，特别涉及一种提高掩模辅助图形一致性方法、装置及计算机设备。本发明提供的一种提高掩模版图辅助图形一致性方法，包括以下步骤：获取初始掩模版图上的辅助图形；基于预设第一约束值判断辅助图形能否对其相邻辅助图形进行回退；若...
该专利属于深圳晶源信息技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳晶源信息技术有限公司授权不得商用。

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