下载半导体电镀装置的技术资料

文档序号:37350656

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本发明提供了一种半导体电镀装置,涉及芯片制造的技术领域,包括电镀槽体、电镀阳极、待电镀阴极晶圆、离子交换膜和超声发生器;电镀槽体内容置有电镀液,通过超声发生器产生的高速微射流强化了电镀液的搅拌作用,加强了离子的输运能力,减小了扩散层厚度和浓...
该专利属于湖北九峰山实验室所有,仅供学习研究参考,未经过湖北九峰山实验室授权不得商用。

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